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会社案内

会長挨拶

当社は、約半世紀の長きにわたり培ってきた、超純水による洗浄技術とノウハウを強みとしています。

一方で昨今、半導体の微細化は進み、ナノメートル(nm)からオングストローム(Å)の時代を迎えようとしています。

変化の大きな時代でも、変わらない私たちの使命は「良いものを提供する」ということ。

萩原工業は、半導体製造における洗浄の多様化するニーズを的確にとらえ、お客さまの高付加価値な製品づくりを支えるサービスを提供し続けます。



代表取締役会長 齋藤修一


社長挨拶

萩原工業は1979(昭和54)年、私の父が創業しました。かつて使い捨てであったシリコンウエハ―ケースのリサイクル利用にいち早く着目。

以来、地元半導体関連企業様を中心に、半導体製造工程に欠かせない精密洗浄を受託してきました。

私たちが大切にしているのは、「人と人とのつながり」。

今後も、これまで築いてきたお客さまからの信頼を礎とし、超純水が持つ新たな可能性を探り、社会に貢献できる企業を目指してまいります。



取締役社長 萩原浩美


会社概要

会社名 萩原工業株式会社
役員
代表取締役会長 齋藤修一
取締役社長   萩原浩美
設立1979年2月7日
資本金
2,000万円
主要取引先 株式会社サイテックス、シノン電気産業株式会社
事業内容

シリコンウェーハ容器洗浄、ICトレイ洗浄、硝子瓶洗浄、液晶基板ケース、フォトマスクケース、シリンジ容器等各種樹脂容器洗浄、その他

従業員数
68名(2025年5月現在)
取引銀行群馬銀行
提携企業株式会社サイテックス、シノン電気産業株式会社


沿革

1979年02月
萩原工業株式会社を設立
1999年08月本社新工場を増設
2005年10月ISO9001認証取得
2007年12月ISO14001認証取得
2023年09月株式会社サイテックスが100%親会社となる